Развитие технологии цифровых интегральных схем на GaAs

Web-страница: http://www.mikron.ru/rev3.html

Представлена концепция развития технологии цифровых интегральных схем на арсениде галлия и других полупроводниковых соединениях. Рассмотрены технологические проблемы обработки поверхностного слоя и характеристики качества поверхности. Представлены описания технологий ионной и жидкостной очистки поверхности, ионной имплантации, осаждения слоев.

Тематический рубрикатор: Материаловедение. Технология конструкционных материалов/Физико-химические методы формообразования/Другие физико-химические методы обработки, Материаловедение. Технология конструкционных материалов/Методы обработки поверхностей/Другие методы обработки, Материаловедение. Технология конструкционных материалов/Методы обработки поверхностей, Материаловедение. Технология конструкционных материалов/Методы обработки поверхностей/Нанесение покрытий
Тип ресурса: Дополнительные информационные материалы, Интернет-публикация научно-популярного характера
Уровень образования: Высшее, Среднее